→关于我们
宗旨
联系我们
询盘
友情链接
→扩散源
技术规格
应用范围
询盘
联系我们
→询盘
|
疑难解答
1-2-3
方块电阻不均匀
问题 |
可能原因 |
建议的解决方案 |
参考* |
进气口过高 |
气体流率过高 |
|
环境气体 |
上游源片用尽 |
|
(1) |
沉积时间太短 |
增加沉积时间 |
工艺参数 |
出气口过高 |
水分/空气回流 |
|
(2) |
下游源片温度时间不足 |
|
工艺参数 |
沉积时间太短 |
增加沉积时间 |
工艺参数 |
两端都过高 |
源片使用寿命将尽 |
替换源片 |
(1) |
沉积时间太短 |
增加沉积时间 |
工艺参数 |
石英船在平坦区域外 |
重新检查炉型 |
|
硅的数据逐渐增加 |
氧化硅增长 |
|
环境气体 |
源片使用寿命将尽 |
替换源片 |
(1) |
沉积时间太短 |
增加沉积时间 |
工艺参数 |
硅的数据急剧增加 |
源片受潮 |
|
成熟 |
空气泄漏,管道破裂 |
检查配件和管 |
(2) |
源片接触酸等 |
替换源片 |
硼源片的清洗
磷源片的清洗 |
非均匀运行到运行 |
贮存不当 |
提高存储质量 |
贮存 |
在管或载体受潮 |
检查配件,检查破管 |
(2) |
沉积时间太短 |
增加沉积时间 |
工艺参数 |
源片使用早期变化过快 |
均衡进化速率不成立 |
增加必要的成熟时间 |
成熟 |
硅边缘高 |
气体流量过高 |
减少气体流量 |
环境气体 |
硅一边边缘高 |
源片边缘部分枯竭 |
- 减少气体流量
- 定期旋转源片在船上的位置
- 使用过大源片
|
(6) |
|